La superficie patentada K-LEAN se crea en dos etapas secuenciales: Pulido con chorro de arena, destinado a crear una topografía de superficie porosa, seguido de un grabado ácido, lo que genera una estructura de superficie micro-rugosa.

El tratamiento de la superficie se completa eliminando los contaminantes con Agua Ultra Pura, un proceso único adquirido de la industria de los semiconductores.